Helo tetamu

Masuk / Daftar

Welcome,{$name}!

/ Log keluar
Melayu
EnglishDeutschItaliaFrançais한국의русскийSvenskaNederlandespañolPortuguêspolski繁体中文SuomiGaeilgeSlovenskáSlovenijaČeštinaMelayuMagyarországHrvatskaDanskromânescIndonesiaΕλλάδαБългарски езикGalegolietuviųMaoriRepublika e ShqipërisëالعربيةአማርኛAzərbaycanEesti VabariikEuskeraБеларусьLëtzebuergeschAyitiAfrikaansBosnaíslenskaCambodiaမြန်မာМонголулсМакедонскиmalaɡasʲພາສາລາວKurdîსაქართველოIsiXhosaفارسیisiZuluPilipinoසිංහලTürk diliTiếng ViệtहिंदीТоҷикӣاردوภาษาไทยO'zbekKongeriketবাংলা ভাষারChicheŵaSamoaSesothoCрпскиKiswahiliУкраїнаनेपालीעִבְרִיתپښتوКыргыз тилиҚазақшаCatalàCorsaLatviešuHausaગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaमराठी
Rumah > Berita > ASML menjangkakan untuk menyampaikan 10 sistem EUV dan 56 EUV menjelang 2027

ASML menjangkakan untuk menyampaikan 10 sistem EUV dan 56 EUV menjelang 2027

ASML

Menurut TechPowerUp, ASML baru-baru ini menyatakan bahawa berdasarkan maklumat dan permintaan pesanan semasa, ia menjangkakan untuk menyampaikan 10 sistem litografi EUV dan 56 EUV pada tahun 2027. Terutama, kedua-dua Intel dan Samsung baru-baru ini meningkatkan pesanan sistem litografi mereka.Intel menaikkan perintah EUV yang tinggi dari 1 hingga 2 sistem dan perintah EUV dari 3 hingga 5 sistem.Samsung juga meningkatkan pesanan EUV dari 5 hingga 7 sistem.

Terutama, SK Hynix menyumbang 20 sistem EUV ASML akan menyampaikan pada tahun 2027, sementara juga meningkatkan perintah EUV yang tinggi dari satu hingga dua unit.Selain itu, SK Hynix dikhabarkan untuk merancang memasang 20 sistem EUV dalam tempoh dua tahun akan datang, semuanya diperolehi untuk penyelesaian memori HBM dan lanjutan.

Walaupun Intel mungkin menjadi pengeluar semikonduktor pertama yang memperkenalkan teknologi pendedahan EUV yang tinggi ke dalam pengeluaran besar-besaran, Samsung dan SK Hynix dengan cepat menangkapnya.Terutama untuk SK Hynix, pada kadar pengembangan kapasiti semasa, ruang FAB tambahan diperlukan untuk menampung pemasangan sistem litografi ini.